Резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и ученые Национального исследовательского университета «МИЭТ» проводят исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером от 28 нанометров и ниже, востребованным в современной микроэлектронике.

Об этом сообщил руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики, входящего в Комплекс экономической политики и имущественно-земельных отношений столицы, Владислав Овчинский.

«Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-литографа – уникального оборудования для производства микросхем. Научные работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ при участии «Зеленоградского нанотехнологического центра» – резидента столичного технополиса. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов», ̶ сказал Владислав Овчинский.

Установка сможет использоваться для производства чипов топологических размеров от 28 нанометров и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ Москвы сегодня изучают возможность реализации технологии.

По словам проректора по научной работе МИЭТ Сергея Гаврилова, если эта работа завершится успешно, за ней последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки.

«Резиденты ОЭЗ Москвы вносят значительный вклад в отечественную инноватику и микроэлектронную промышленность. Так, резидент «Зеленоградский нанотехнологический центр» уже вложил в проект более 300 млн руб. Очередной шаг в этом направлении – участие в создании уникального литографа для печати чипов. Эта работа в кооперации с университетом МИЭТ позволит усилить компетенции и являться важным шагом технологического развития для микроэлектроники России», — отметил генеральный директор ОЭЗ «Технополис Москва» Геннадий Дегтев.

Источник: russianelectronics.ru